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dc.contributor.advisorOliveira, Fernando Albuquerque de-
dc.contributor.authorSilva, Glaucia Alves da-
dc.date.accessioned2022-04-13T18:02:28Z-
dc.date.available2022-04-13T18:02:28Z-
dc.date.issued2022-04-13-
dc.date.submitted2021-12-20-
dc.identifier.citationSILVA, Glaucia Alves da. Dinâmica da interface em modelos de crescimento unidimensionais. 2021. xvi, 54 f., il. Dissertação (Mestrado em Física) — Universidade de Brasília, Brasília, 2021.pt_BR
dc.identifier.urihttps://repositorio.unb.br/handle/10482/43432-
dc.descriptionDissertação (mestrado) — Universidade de Brasília, Instituto de Física, Programa de Pós-Graduação em Física, 2021.pt_BR
dc.description.abstractFenômenos de crescimento de superfícies é um tema que tem sido muito estudado tanto do ponto de vista experimental quanto teórico. O mesmo pode ser observado como, por exemplo, em crescimento de filmes finos, formação de dunas e em crescimento de membranas celulares. Neste trabalho, apresentamos conceitos básicos relacionados ao crescimento de superfícies em processos de deposição de partículas e, em seguida, apresentaremos os três modelos estudados de crescimento/deposição de partículas em superfícies rugosas em (1 + 1) dimensões. Sendo eles: o modelo de Deposição Aleatória com Relaxação Superficial, o modelo de corrosão e o modelo de Single-Step. Foi proposto como metodologia estudar as propriedades e características desses modelos, com o objetivo de obter o expoente de rugosidade mais próximo do valor exato, valor exato esse que é encontrado de forma analítica por meio de equações de crescimento já estabelecidas. Assim usamos aqui diferentes métodos de análise como, por exemplo, a obtenção desse expoente por meio de uma função de correlação. Analisamos os valores obtidos e chegamos a conclusão que dispondo de uma função de correlação é possível encontrar um valor do expoente de rugosidade mais próximo do valor exato.pt_BR
dc.description.sponsorshipCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES).pt_BR
dc.language.isoPortuguêspt_BR
dc.rightsAcesso Abertopt_BR
dc.titleDinâmica da interface em modelos de crescimento unidimensionaispt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
dc.subject.keywordCrescimento de interfacespt_BR
dc.subject.keywordExpoentes de crescimentopt_BR
dc.subject.keywordModelos de crescimento unidimensionaispt_BR
dc.rights.licenseA concessão da licença deste item refere-se ao termo de autorização impresso assinado pelo autor com as seguintes condições: Na qualidade de titular dos direitos de autor da publicação, autorizo a Universidade de Brasília e o IBICT a disponibilizar por meio dos sites www.bce.unb.br, www.ibict.br, http://hercules.vtls.com/cgi-bin/ndltd/chameleon?lng=pt&skin=ndltd sem ressarcimento dos direitos autorais, de acordo com a Lei nº 9610/98, o texto integral da obra disponibilizada, conforme permissões assinaladas, para fins de leitura, impressão e/ou download, a título de divulgação da produção científica brasileira, a partir desta data.pt_BR
dc.contributor.advisorcoGomes Filho, Márcio Sampaio-
dc.description.abstract1Surface growth phenomena is a topic that has been extensively studied both experimentally and theoretically. The same can be observed as, for example, in thin film growth, dune formation, and in cell membrane growth. In this work, we present basic concepts related to surface growth in particle deposition processes and then present the three studied models of particle growth/deposition on rough surfaces in (1 + 1) dimensions. These are: the Random Deposition with Surface Relaxation model, the corrosion model, and the Single-Step model. It was proposed as a methodology to study the properties and characteristics of three different growth models, with the objective of obtaining the roughness exponent closest to the exact value, which is found analytically through established growth equations. So we use different methods of analysis here, such as obtaining this exponent by means of a correlation function. We analyzed the values obtained and came to the conclusion that by having a correlation function it is possible to find a value of the roughness exponent that is closer to the exact value.pt_BR
dc.contributor.emailglauciadialves@hotmail.compt_BR
dc.description.unidadeInstituto de Física (IF)pt_BR
dc.description.ppgPrograma de Pós-Graduação em Físicapt_BR
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